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美國SVT 脈沖激光沉積設備/PLD
更新時間：2024-11-28
產(chǎn)品型號：PLD-01/PLD-02
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
生產(chǎn)地址：
產(chǎn)品報價：
產(chǎn)品特點：美國SVT 脈沖激光沉積設備/PLD產(chǎn)品簡介：●SVT SMART（Scientific Materials and Applied Research Tool）脈沖激光沉積系統(tǒng)具有*性。它可以把激光燒蝕技術和我們所擁有的其他沉積技術（如RF源）集成于一臺設備上。可以生長各種可能的材料。● 配有6個旋轉(zhuǎn)靶臺，實現(xiàn)多層薄膜結(jié)構(gòu)生長。● 可與準分子激光和Yag激光相連。
美國SVT 脈沖激光沉積設備/PLD應用
● 多元素復合氧化物
● 高溫超導材料
● 磁性材料、金屬材料
● 低蒸汽壓材料
● MEMS
基本系統(tǒng)
腔室及真空泵
12’’ 快速門，250l/s 分子泵，全量程規(guī)
沉積源
靶臺，6X1’’(25mm) 靶，可以水平旋轉(zhuǎn)，可Z方向移動
樣品臺
1’’(25mm)大小，可加熱至800oC（1000oC可選），可水平旋轉(zhuǎn)，可Z方向移動
在線工藝監(jiān)控
石英晶振沉積速率監(jiān)控儀
自動化
自動化裝置：
控制樣品溫度和旋轉(zhuǎn)
靶臺的位置控制
靶臺旋轉(zhuǎn)
氣體控制
速率及厚度計算（利用QCM輸出）
激光束掃描（可選）
激光束屏蔽控制
自動泵抽和充氣
差分泵抽結(jié)構(gòu)
RHEED分析（可選）
裝載室壓強監(jiān)控（可選）
美國SVT 脈沖激光沉積設備/PLD主要特點
RF射頻等離子源(氧，氮)
升級高真空
增加進樣室
升級為Laser-MBE （L-MBE）系統(tǒng)
自動軟件控制
提供更潔凈的薄膜生長環(huán)境,控制解決方案
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